光刻法
发布时间：2025-03-21 15:15:02来源：网易编辑：从娅河
——半导体制造的核心工艺
光刻法是现代半导体制造中不可或缺的关键技术，其核心在于通过光学投影将电路图案精确地转移到硅晶圆表面的光敏材料上。这一过程类似于传统摄影中的曝光成像，但其精度要求极高，通常需要达到纳米级别。
在光刻过程中，首先需要设计出电路图案，并将其转化为掩模版上的图形。随后，利用紫外光或极紫外光（EUV）照射晶圆表面涂覆的光刻胶层，未被遮挡的部分会发生化学反应，从而形成所需的电路结构。接着，经过显影、蚀刻等步骤，最终完成电路的制作。光刻技术的进步直接推动了芯片性能的提升与成本的降低，是实现摩尔定律的重要保障。
随着集成电路集成度的不断提高，光刻技术正面临更多挑战，如光源波长的缩短、镜头系统的优化以及新材料的应用等。未来，光刻法将继续引领半导体产业的发展方向，为人工智能、量子计算等领域提供坚实的技术支撑。
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